设备参数
整机尺寸 ≤1.9（L)×1.3（W)×2.2（H)（单位：M）
极限真空 ≤5×10 -5Pa 保压12小时 压强≤5P a
膜厚均匀性 ≥95% 重复性 ≥95% 速率稳定性≥95%
基片尺寸 ≤300×400mm
可适配电子束、束源蒸发系统
适用范围
钙钛矿器件研发、光电器件结构优化等，兼容晶硅钙钛矿
器件制作。
产品特色
◆ 膜厚均匀性高，重复性强，速率稳定性高。
◆ 有8+16组蒸发源，可做到4源共蒸。
◆ 灵活性好，兼容性高，不超过300×400mm面积皆可切换。
◆ 可蒸镀腐蚀性钙钛矿材料，对材料限制性低。
