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分子束外延镀膜机

主要用途:

设备用于生长光学晶体、超导体和有机化合物等薄膜材料,以及其它高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料和多层薄膜材料。



系统主体结构:

系统由真空腔室(外延生长室、进样室)、样品传递机构、旋转样品架、真空系统、真空测量、电器控制、气体、计算机控制等各部分组成。具体如下:


外延生长室:超高真空环境下完成材料外延生长, 尺寸 450mm, 极限真空:5.0X10-8Pa

进样室:快速进样,并保证外延室超高真空环境,尺寸¢ 200X300mm, 极限真空:5.0X10-5Pa

基片台: 旋转,0-100/,加热,0-600;公转

高能电子衍射仪:可原位监测生长过程

CCD成像:观察衍射光点图像、强度变化,采集数据,储存,打印

四极质谱仪:系统检漏和腔内残气分析

电器控制系统:精确控制温度、转速、位移

气体电离系统:专利技术设计,保证超高真空下工作需求

脉冲准分子激光器:(用户可选购)

激光束扫描系统:

计算机控制系统:自动控制加热,旋转,位移,激光束扫描(用户可选购)


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