产品参数
整机尺寸 ≤1.2（L)×0.9（W)×2（H)（单位：M）
极限真空 ≤2×10 -5Pa 保压12小时 压强≤5P a
膜厚均匀性 ≥95% 重复性 ≥95% 速率稳定性≥95%
基片尺寸 ≤40×40mm 数量6片
≤50×50mm 数量4片
有12个mask位置 每个基片对应3个位置
适用范围
OLED材料验证、光电器件结构优化等。
产品特色
膜厚均匀性高，重复性强，速率稳定性高。
有16组蒸发源，可做到4源共蒸。
蒸镀器件效率高，寿命长，可满足顶发射器件制备要求。
占地面积小，使用成本低，维护成本低，性价比高。
